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我国现在高科技的发展，在高铁领域得到进步，在航空航天取得了重大的成果，但是我国的半导体技术一直不景气。
半导体在我们这里是弱项，随着不断的对它进行研究认识，我国对半导体的发展还是非常的迅速。
现在全球的半导体生产设备，台积电处于遥遥领先的地位，现阶段半导体产业能量产的最先进的工艺节点是7nm，台积电处于首位。对于7纳米蚀刻机设备，只有中微半导体打入制程蚀刻机设备的行列，是大陆半导体企业中的唯一一个设备商。
中微是中国首批自主研发的7纳米芯片刻蚀机，并且中微自主研发的温控设计，可以让在蚀刻的过程中温控精度可以达到0.75度左右，已经比国际技术优秀。
现在我国的集成电路芯片和微观器件生产大量增加，逐步成为生产大国。我国在未来几年的发展，芯片的生产可能会超过美国、韩国和日本等半导体生产大国，会变成第一个生产基地。
国内的市场非常的大，但是现在的形势来看，我们大部分半导体根本就没有办法自足，几乎需要进口才可以完成。
在半导体产业发展迅猛的浪潮中，我国半导体设备实现了从无到有的突破。半导体不仅仅是一个市场化的行业，而且还是一个门槛很高的行业，这就必然导致后发者学习起来难度很大。
中国现在面对的问题，一定要避免与强势企业制造商的正面竞争的，是有机会的。
半导体芯片生产是先由光刻机在晶元上绘图，再由蚀刻机蚀刻电路，蚀刻机国内已有7纳米生产能力，而光刻机由于天价研发经费和高技术门槛，全球仅剩荷兰一家企业在生产及研发，虽然没有对中国实行技术设备封锁，但面对全球众多采购者及一年量产十几台设备现状，将中国提货日排在最后，严重制约了我国半导体产业发展规模，另一方面，由于国内半导体企业追求效益、为减少故障率又不愿使用国产光刻设备，导致国内光刻技术不能在应用中完善，光刻技术本来就差距很大，缺乏应用经验反馈，技术追赶步伐缓慢！面对光刻机技术落后这难以跨越又必须跨越的障碍！首先从国家战略层面引起高度重视，面对现实，加大人才培养，完善产品研发条件及模拟应用环境建设，促进光刻技术稳健快速赶超，其次利用荷兰光刻机生产企业新技术研发经费不足，组织资金投资，既能确保最新技术设备早出早提，早日实现芯片国产化，又能了解最先进光刻机技术研发状态！侧面助力国产技术研发速度！
14纳米到7纳米之间光刻只存在光源问题
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科学家研究解决
感谢中囯的科技工作者们，不管路有多难走，路有多长，中国大众永远支持你们前行!