芯片哪个工艺有前途？芯片工艺工程师发展前景

　　目前最有希望的便是二硫化钼（MoS2）。

　　硅和二硫化钼（MoS2）都有晶体结构，但是，二硫化钼对于控制电子的能力要强于硅，众所周知，晶体管由源极，漏极和栅极，栅极负责电子的流向，它是起开关作用，在1nm的时候，栅极已经很难发挥其作用了，而通过二硫化钼，则会解决这个问题，而且，二硫化钼的介电常数非常低，可以将栅极压缩到1nm完全没有问题。

　　1nm是人类半导体发展的重要节点，可以说，能不能突破1nm的魔咒，关乎计算机的发展，虽然二硫化钼的应用价值非常大，但是，目前还在早期阶段，而且，如何批量生产1nm的晶体管还没有解决，但是，这并不妨碍二硫化钼在未来集成电路的前景。

　　无论是工程师，还是公司角度，门槛高收益大的产品有更好的发展前途。

　　先进制程的芯片，流片的NRE成本在那里， 必然要有大量出货的产品规划，有大团队的投入，才能立项。 从项目规模上，和功率器件芯片，就不在一个层次上。